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磁过滤对多弧离子镀(TiAl)N薄膜的影响
磁过滤对多弧离子镀(TiAl)N薄膜的影响
来源 :中国有色金属学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:gongyang12
【摘 要】
:
介绍了利用过滤电弧离子镀沉积(TiAl)N薄膜初步的研究结果.在电弧靶材前沿的磁场作用下,有效减小了薄膜的宏观颗粒尺寸,并极大地降低了颗粒密度.同时,过滤电弧的作用,使偏压
【作 者】
:
李成明
张勇
曹尔妍
薛明伦
【机 构】
:
中国科学院力学研究所
【出 处】
:
中国有色金属学报
【发表日期】
:
2001年z1期
【关键词】
:
过滤电弧
薄膜
宏观颗粒
抗氧化性能
filter arc evaporation
films deposition
macroparticle
oxid
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介绍了利用过滤电弧离子镀沉积(TiAl)N薄膜初步的研究结果.在电弧靶材前沿的磁场作用下,有效减小了薄膜的宏观颗粒尺寸,并极大地降低了颗粒密度.同时,过滤电弧的作用,使偏压对膜成分的影响减弱,薄膜的硬度随膜中铝含量的增加而提高,(TiAl)N的抗氧化能力明显提高.
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