NbN薄膜的制备与性能研究

来源 :光谱学与光谱分析 | 被引量 : 0次 | 上传用户：andacaizheng

【摘要】

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采用磁控溅射和直流偏压二极溅射两种方法制备了NbN薄膜. 用XRD和TEM测量比较了两种不同溅射方法获得的NbN薄膜的特点, 并测量了NbN薄膜的超导转变温度Tc. 采用两种溅射方法

【作者】

：

彭松肖斌平郝建奎谢大弢

【机构】

：

北京大学重离子物理教育部重点实验室

【出处】

：

光谱学与光谱分析

【发表日期】

：

2005年4期

【关键词】

：

NbN薄膜性能研究制备超导转变温度直流偏压磁控溅射择优取向薄膜生长 TEM XRD TCO 气流量 magnetron sputtering D

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采用磁控溅射和直流偏压二极溅射两种方法制备了NbN薄膜. 用XRD和TEM测量比较了两种不同溅射方法获得的NbN薄膜的特点, 并测量了NbN薄膜的超导转变温度Tc. 采用两种溅射方法都得到了致密、均匀、单一δ相的多晶NbN薄膜, 薄膜生长的择优取向受温度和氮气流量的影响很大, 薄膜的超导转变温度受溅射室本底真空影响较大.

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