半导体材料及器件制造工艺对洁净度的要求

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【摘要】

：

<正> 随着科学技术的不断进步,半导体制造技术也迅猛发展着,产品数量大幅度增加,1984年世界多晶硅达到5800吨,预计1986年后将达13510～15310吨,GaAs1984年达到15吨。当前64K位

【作者】

：

蒋雅芬

【机构】

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北京有色金属研究总院

【出处】

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稀有金属

【发表日期】

：

1986年01期

【关键词】

：

洁净度半导体材料制造工艺

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<正> 随着科学技术的不断进步,半导体制造技术也迅猛发展着,产品数量大幅度增加,1984年世界多晶硅达到5800吨,预计1986年后将达13510～15310吨,GaAs1984年达到15吨。当前64K位和256K位大规模集成电路已进入生产阶段,1M位动态随机存贮器已进入试验阶段,到1990年将得到实际应用。对

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