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通过X射线衍射测定了一系列羟基混合金属柱交联蒙脱土的底面间距,并考察了制备条件、焙烧温度等对交联蒙脱土底面间距的影响.结果发现蒙脱土经交联之后底面间距有较大的增加;采用共混法、焙烧温度在500℃时制得的催化剂具有较大的底面间距;另外,羟基混合金属柱中各种金属离子的比例对交联蒙脱土的底面间距有较大的影响.