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采用传统共沉淀法制备了层间阴离子为碳酸根的Ni-Al-Nd三元层状双氢氧化物,利用X射线粉末衍射（XRD）、傅里叶变换红外光谱（FT-IR）、扫描电子显微镜（SEM）对合成产物的结构和形貌进行表征。采用循环伏安（CV）、恒电流充放电（GCD）和交流阻抗谱（EIS）对材料的电化学性能进行测试,结果表明,掺杂了钕元素的镍铝层状双氢氧化物相比纯的镍铝层状双氢氧化物,电容性能得到明显提升,在1 A/g电流密度下的比电容从1 605 F/g提升至2 114 F/g。