双靶溅射法制作SmS光学薄膜

来源 :稀有金属材料与工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户：ssjspace

【摘要】

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以Sm和Sm2S3为靶材,采用双靶子溅射系统,于单晶Si基板上成功制作了S-SmS和M-SmS微晶薄膜,并采用XRD,AFM和RBS及光学性能测定等测试手段对薄膜进行了分析测试.结果表明:基板温

【作者】

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黄剑锋曹丽云

【机构】

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陕西科技大学

【出处】

：

稀有金属材料与工程

【发表日期】

：

2004年3期

【关键词】

：

SmS薄膜双靶溅射法光学薄膜光学性能 S-SmS微晶薄膜 M-SmS微晶薄膜 SmS thin film double-target sputterin

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以Sm和Sm2S3为靶材,采用双靶子溅射系统,于单晶Si基板上成功制作了S-SmS和M-SmS微晶薄膜,并采用XRD,AFM和RBS及光学性能测定等测试手段对薄膜进行了分析测试.结果表明:基板温度低于200℃的情况下;或者在基板温度为400℃,薄膜组成中Sm过量的条件下均可以直接获得在常温常压下稳定存在的M-SmS微晶薄膜.S-SmS和M-SmS微晶薄膜表现出明显不同的光学特性.

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