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介绍了热纳米压印(T-NIL)的要素制备、工艺流程,分析了温度、压力、时间等因素对T-NIL技术的影响。针对这些因素,阐述了T-NIL技术的最新研究进展,包括抗粘连处理方法、加热加压方式、模具及光刻胶材料的选择、T-NIL设备等。介绍了T-NIL技术在不同领域的应用。
热纳米压印技术的研究进展
【摘 要】
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介绍了热纳米压印(T-NIL)的要素制备、工艺流程,分析了温度、压力、时间等因素对T-NIL技术的影响。针对这些因素,阐述了T-NIL技术的最新研究进展,包括抗粘连处理方法、加热加
【机 构】
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河海大学物联网工程学院
【出 处】
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传感器与微系统
【发表日期】
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2019年04期
【基金项目】
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常州市科技计划资助项目(CJ20179036);中央高校基本科研业务费专项资金资助项目;国家自然科学基金资助项目(61504038)
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