Pulsed-Laser Annealing of NiTi Shape Memory Alloy Thin Film

来源 :材料科学技术学报：英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：leon_xu23

【摘要】

：

Local annealing of amorphous NiTi thin films was performed by using an Nd:YAG 1064 nm wavelength pulsed laser beam. Raw samples produced by simultaneous sputter

【作者】

：

S.K. Sadrnezhaad E. Rezvani S.

【机构】

：

MaterialsandEnergyResearchCenter,DepartmentofMaterialsScienceandEngineering,DepartmentofMaterialsSci

【出处】

：

材料科学技术学报：英文版

【发表日期】

：

2009年1期

【关键词】

：

局部热处理镍钛薄膜脉冲激光退火形状记忆合金 Local heat treatment NiTi thin film Pulsed laser anne

【基金项目】

：

The authors gratefully acknowledge Sina Co. of Iran for providing Nd：YAG laser facilities for carrying out this investigation.

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Local annealing of amorphous NiTi thin films was performed by using an Nd:YAG 1064 nm wavelength pulsed laser beam. Raw samples produced by simultaneous sputter deposition from elemental Ni and Ti targets onto unheated Si (100) and Silica (111) substrates

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