【摘 要】
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我们用常压化学气相沉积法(APCVD),以SiH4和NH3为先驱体,在较低的温度(<700℃)下制备氮氧化硅(Si-O-N)薄膜,并对其性能进行了研究。研究结果表明氮氧化硅薄膜能使改性后平板玻璃硬度提
【机 构】
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浙江大学材料系硅材料科学国家重点实验室!杭州310027;
【基金项目】
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国家自然科学基金;浙江省151人才工程资助
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我们用常压化学气相沉积法(APCVD),以SiH4和NH3为先驱体,在较低的温度(<700℃)下制备氮氧化硅(Si-O-N)薄膜,并对其性能进行了研究。研究结果表明氮氧化硅薄膜能使改性后平板玻璃硬度提高40%,并具有良好的抗高温氧化性,这种薄膜在材料表面改性领域有着广阔的应用前景。
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