GaN HFET的综合设计

来源 :固体电子学研究与进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户:candyyao007
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从自洽求解薛定谔方程和泊松方程出发,研究了负极化电荷在强化沟道阱量子限制和能带剪裁中的作用。优化设计负极化电荷的位置后给出了新的复合势垒设计。提出了新的动态电流崩塌模型和二维异质结构概念,把原位sbN。钝化和复合势垒结合起来实现二维异质结构。用AlGaN/Al InN复合势垒解决了Al InNHFET中的欧姆接触电阻大和沟道不易夹断两大难题。通过能带剪裁和二维异质结构设计完成了包含钝化、场板电极、挖槽、薄势垒欧姆接触、GaN帽层和AlN插入层等方案优点的新综合设计。
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