【摘 要】
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RTP工艺是当今半导体制造过程中使用最广泛的热处理方法,其温度场具有升温速度快和均匀性好的特点,但随着硅晶圆的尺寸不断增大,现已达到400mm,给RTP设备的温度控制带来了困
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RTP工艺是当今半导体制造过程中使用最广泛的热处理方法,其温度场具有升温速度快和均匀性好的特点,但随着硅晶圆的尺寸不断增大,现已达到400mm,给RTP设备的温度控制带来了困难.为得到良好的温度均匀性,本文提出了一个分区控制策略.基于对温度场内的辐射传热的分析,将温度场分成了3个区域,并计算出各区域之间的热传导的热流量,最后根据能量守恒定律得到了温度场的控制模型.针对模型的时变性和迟滞性的特点,以及温度场升温速度和均匀性的要求,设计了一个基于Fuzzy-PID的控制系统,通过Matlab仿真证明了该控制算法的有效性.本模型可用于控制系统的设计,也可用于加热装置结构的优化设计.
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