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烘烤工艺是半导体的重要工艺,贯穿于整个光刻过程。半导体光刻工艺流程中很大一部分由烘烤工艺占据,对最后形成图形的质量非常关键。典型的烘烤设备采用热板和烘箱,温度精度和均匀性必须经过计量。
半导体烘烤工艺及其设备技术
【摘 要】
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烘烤工艺是半导体的重要工艺,贯穿于整个光刻过程。半导体光刻工艺流程中很大一部分由烘烤工艺占据,对最后形成图形的质量非常关键。典型的烘烤设备采用热板和烘箱,温度精度
【机 构】
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重庆声光电有限公司,重庆科技学院计算机系
【出 处】
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设备管理与维修
【发表日期】
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2020年7期
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