5W Si衬底GaN基HEMT研究

来源 :半导体技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:neverneverland
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介绍了si衬底上外延生长GaN基HEMT的制备及其直流特性与微波特性的研究结果:栅宽200μm器件Vgs=0V时饱和电流密度达0.975A/mm,最大跨导240mS/mm,夹断电压-4.5V,栅漏击穿电压80V;栅宽1mm器件,在频率2GHzT,工作电压Vds=25v时,连续波输出功率为5.0W,功率增益为9dB,功率附加效率为35%。
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