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本文应用SPC-350多靶磁控溅射仪制备NbN薄膜,并研究了氮分压对磁控反应溅射NbN薄膜微结构和力学性能的影响.
NbN薄膜的反应磁控溅射沉积
【摘 要】
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本文应用SPC-350多靶磁控溅射仪制备NbN薄膜,并研究了氮分压对磁控反应溅射NbN薄膜微结构和力学性能的影响.
【机 构】
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上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室(上海)
【出 处】
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第十二届全国电子显微学会议
【发表日期】
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2002年8期
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