薄膜微结构相关论文
无论是在300℃或室温下,用PVD方法淀积的ZrO_2薄膜,达到一定厚度后都出现晶相非均匀性,在基底侧为四方相,空气侧为单斜相.本文给出......
利用 Kr F准分子激光器及聚酰亚胺靶在硅衬底上沉积出了类石墨薄膜。借助于 X射线光电子谱及 Raman光谱手段对薄膜微结构进行了分......
研究了离子束溅射(IBS)制备的Nb2O5薄膜的光学特性、应力、薄膜微结构等特性,系统地分析了辅助离子源的离子束能量和离子束流对薄......
本文采用热丝化学气相沉积(HWCVD)技术制备n 型纳米晶硅(nc-Si:H)薄膜，系统研究了沉积参数，特别是掺杂浓度对薄膜微结构、电学性质和......
本文采用射频磁控溅射法制备钙钛矿结构La1-xCaxMnO3（LCMO）薄膜,采用热重-差热分析仪（TG-DSC）、X射线衍射仪（XRD）、原子力显微镜（AFM）、X射......
本文研究了溅射的沉积工艺参数对 Pt 电极上沉积的BST组分梯度薄膜微结构与电学性能的影响。实验结果表明：BST组分梯度薄膜晶粒大小......
本文研究了溅射沉积工艺参数对Pt电极上沉积BST组分梯度薄膜微结构与电学性能的影响。实验表明:BST组分梯度薄膜晶粒大小和晶化程......
本文通过磁控溅射方法制备了低浓度Ti掺杂DLC薄膜，研究沉积参数对低浓度Ti-DLC薄膜结构和力学性能的影响，并重点分析沉积参数和测试......
氧化锌(ZnO)是一种典型的Ⅱ-Ⅵ族宽带隙化合物半导体材料，属于六角晶系6mm点群，它的禁带宽度为3.37eV，激子束缚能为60meV。氧化锌晶体......
由于ＧａＮ薄膜在光电子学方面具有潜在的巨大应用前景，目前国际上对其进行了广泛的研究，但这些应用的实现有赖于生长出高质量的ＧａＮ单晶薄膜，以......
通过射频磁控溅射法制备了Fe_Si_B_Nb_Cu薄膜 ,采用x射线衍射与M ssbauer谱相结合分析了薄膜的微结构形态 ,研究了不同溅射功率对......
用直流(d.c)反应磁控溅射沉积技术、X射线衍射(XRD)和透射电子显微镜成像(TEM)微结构分析方法,研究了氮化钛薄膜表面层固态结构随......
研究了离子束溅射(IBS)制备的Nb2O5、Ta2O5和SiO2薄膜的光学特性、机械特性(应力、硬度和杨氏模量)、薄膜微结构等特性,系统地分析......
为了研究薄膜微结构在折射、反射和衍射的基础上引入干涉效应后的光学特性,用于实现对光波的复杂调制.主要对薄膜微结构的制备工艺......
为了研究Ag元素对Ti Si N薄膜结构及性能的影响,通过磁控溅射法制备了不同Ag含量的Ti Si N-Ag薄膜,采用EDS,XRD,XPS,TEM,CSM纳米压......
期刊
在SiNx薄膜中引入微金字塔结构,综合利用包含界面的薄膜光学微结构的折射、衍射与干涉现象,实现透反射的调控.通过单点金刚石切削......
