【摘 要】
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采用射频磁控溅射在玻璃基片上制备了参数不同的钛膜，并选取钛膜在HF水溶液中恒压阳极氧化得到TiO2纳米管阵列。结果表明：溅射压强从0．1Pa升至1．5Pa，薄膜致密度显著下降，溅射压强以
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采用射频磁控溅射在玻璃基片上制备了参数不同的钛膜，并选取钛膜在HF水溶液中恒压阳极氧化得到TiO2纳米管阵列。结果表明：溅射压强从0．1Pa升至1．5Pa，薄膜致密度显著下降，溅射压强以0．5Pa为宜；溅射功率为105W，溅射速率约为0．23nm／s，溅射时间延长，薄膜厚度线性增加；衬底预热有利于提高膜的致密度和结晶性能，在衬底温度低于300℃时，钛晶粒在（002）晶面择优生长，当升温到更高温度时，（010）峰、（011）峰出现且强度升高，而（002）峰的强度降低；在室温下，当溅射功率小于150W时，薄膜
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