【摘 要】
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研究了表面处理工艺对ZnTe的Raman光谱的影响,结果表明,ZnTe的LO（Γ）特征峰对表面处理工艺敏感,该特征峰的强度与半峰宽的比值（I/H）越大,晶体表面晶格完整性越高。对机械抛光的Zn
【机 构】
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西北工业大学凝固技术国家重点实验室
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目（50872111）
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研究了表面处理工艺对ZnTe的Raman光谱的影响,结果表明,ZnTe的LO（Γ）特征峰对表面处理工艺敏感,该特征峰的强度与半峰宽的比值（I/H）越大,晶体表面晶格完整性越高。对机械抛光的ZnTe晶片依次进行化学抛光、去除表面氧化物,I/H值分别出现不同程度的增加,表面晶格完整性逐渐提高。以514.5nm激光激发ZnTe,荧光峰掩盖了200～3000cm^-1内Raman散射峰,拟合得到ZnTe的禁带宽度是2.255eV。
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