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分析了磁控直拉法技术和磁场增强型反应等离子刻蚀技术在现代半导体集成电路制造工艺中的应用．简要论述了学科交叉的重要意义．
磁场在硅集成电路制造工艺中的应用
【摘 要】
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分析了磁控直拉法技术和磁场增强型反应等离子刻蚀技术在现代半导体集成电路制造工艺中的应用．简要论述了学科交叉的重要意义．
【机 构】
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上海电力学院数理系
【出 处】
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上海电力学院学报
【发表日期】
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2009年4期
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