用于改善PtSi红外焦平面阵列器件响应特性的长焦距GaAs微透镜阵列器件的制作研究

来源 :红外与毫米波学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：chyanzmr

【摘要】

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提出了一种新的曲率补偿法用于长焦距微透镜阵列的制作.扫描电子显微镜(SEM)显示微透镜阵列为表面极为平缓的方底拱形阵列,表面探针测试结果显示用曲率补偿法制作的微透镜的

【作者】

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何苗易新建程祖海刘鲁勤王英瑞

【机构】

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华中科技大学,中国航天总公司二院25所

【出处】

：

红外与毫米波学报

【发表日期】

：

2001年5期

【关键词】

：

GAAS 离子束刻蚀组合器件红外焦平面阵列器件响应特性砷化镓微透镜阵列器件曲率补偿焦距 GaAs microlenses array ion be

【基金项目】

：

国防重点实验室基金，国家自然科学基金

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提出了一种新的曲率补偿法用于长焦距微透镜阵列的制作.扫描电子显微镜(SEM)显示微透镜阵列为表面极为平缓的方底拱形阵列,表面探针测试结果显示用曲率补偿法制作的微透镜的焦距可达到3861.70μm,而常规光刻热熔法很难制作出焦距超过200μm的相同尺寸的微透镜阵列.微透镜阵列器件与红外焦平面阵列器件在红外显微镜下对准胶合,显著改善了红外焦平面阵列器件的响应特性.

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