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用硅烷试剂保护羟基，介绍了通过底物控制（保护基团立体效应和电效应，硅醚分子的结构环境与电子云密度、邻近官能团影响）和试剂控制两种手段，在有多个硅烷保护基存在下的选择性脱保护。
硅醚的选择性去保护
【摘 要】
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用硅烷试剂保护羟基，介绍了通过底物控制（保护基团立体效应和电效应，硅醚分子的结构环境与电子云密度、邻近官能团影响）和试剂控制两种手段，在有多个硅烷保护基存在下的选择性脱保
【机 构】
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浙江新和成股份有限公司
【出 处】
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化工时刊
【发表日期】
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2012年6期
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