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近年来,国内外学者对硅纳米线的制备方面进行了一系列的研究,得出了很多建设性的成果。本文对现行最流行的金属辅助化学刻蚀法（Metal-assisted chemical etching-MaCE）进行了研究。主要研究了金属催化剂（类型、形状、距离）和单晶硅特性（硅衬底方向、掺杂水平）对单晶硅纳米结构的形貌及刻蚀速率的影响进行了综述。