电子工业用银包铜粉的制备现状及其应用

来源 :电镀与涂饰 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hlayumi
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
综述了制备银包铜粉各种方法的制备工艺及银包铜粉性能的研究现状,这些方法包括置换法、化学还原法、置换与化学沉积复合法及熔融雾化法。介绍了铜粉的预处理方法。列出了某单位采用置换与化学沉积复合技术制备的7种不同银含量的片状银包铜粉的技术指标。指出了银包铜粉的用途及其应用前景。
其他文献
光学薄膜的表面粗糙度是影响薄膜光学特性的重要因素,薄膜表面产生的散射损耗将影响薄膜的光学质量.采用非平衡磁控溅射(Unbalance Magnetron Sputtering,UBMS)和脉冲真空电弧沉积
具有高温、高频和大输出功率能力的宽禁带AlGaN/GaN HEMT器件已成为国内外研究的热点课题。由于异质外延生长的AlGaN/GaN HEMT材料存在晶格和热失配问题,特别是GaN基异质结器
量子点是继超晶格之后,与量子线同时发展起来的一种纳米体系。由于量子点的尺寸达到了可以和电子的de Broglie波长相比拟的程度,所以量子点表现出了独特的性质。当颗粒大小到
车间派工问题是学术界和实践界的关注热点,合理的派工方案可以缩短生产周期、有效利用资源、提高生产系统的响应能力.蚁群算法非常适合这类问题的处理,利用5个城市旅行商问题研