硅基多孔U-SiC薄膜的电致发光及其机理分析

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单晶硅中注入高剂量的C+ 离子,注入能量为50keV,经高温退火后形成β-SiC沉淀,再经电化学腐蚀形成多孔β-SiC,样品表面蒸上一层半透明的金膜,在正向偏压高于25V 时,可以获得波长约为447nm 的蓝光发射, 而且该蓝光发射随着电压的升高而增强.文中还将多孔β-SiC薄膜的电致发光和其光致发光进行了比较,并讨论了其发光机理 High-dose C + ions were implanted into single-crystal silicon with an energy of 50 keV. After β-SiC precipitation by high temperature annealing, porous β-SiC was formed by electrochemical etching. A semi-transparent gold film was evaporated on the surface of the sample. When the forward bias voltage is higher than 25V, a blue light emission with a wavelength of about 447nm can be obtained, and the blue light emission is enhanced with an increase of the voltage. In this paper, the electroluminescence and photoluminescence of porous β-SiC thin films are also compared, and its luminescence mechanism
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