原子层沉积技术相关论文
氧化铪基铁电存储器凭借其与现代半导体工艺的完美兼容、环保无污染、铁电薄膜物理厚度小、功耗低等优异特性,近年来成为科研界和......
研究了退火温度对原子层沉积(ALD)生长的铝掺杂氧化锌(AZO)薄膜光电性能的影响,结果发现:AZO薄膜在600 ℃退火后,X射线衍射峰的半......
原子层沉积(ALD)是通过将气相前驱体以交替脉冲形式通入反应室并在沉积基体表面发生气固相化学吸附反应形成薄膜的一种方法。本文......
随着新能源电动汽车的快速发展,发展新一代高能量密度可充电电池迫在眉睫。在过去一段时间,锂离子电池在手机、电脑等很多电子产品......
工业化的快速发展,为人们提供了更好的生活环境,同时也带来极大的污染问题。其中水污染的问题尤为严重。因此,对水污染的治理已是......
原子层沉积(ALD)以其薄膜的可控性生长技术而闻名,可精确控制纳米级甚至原子级的颗粒生长,这使得它被广泛应用于解决材料和器件的......
Ga_2O_3作为第三代宽禁带半导体,其具有较好的化学稳定性和热稳定性,在日盲紫外探测器、透明导电薄膜等方面表现出良好的发展前景......
近年来,随着半导体技术和IT技术的发展,半导体存储器产业取得长足的进步。其中闪存存储器因其优异的性价比,获得广泛应用。然而,目......
基于CH3NH3Pb I3的有机/无机杂化钙钛矿太阳能电池异军突起,在短短5年内,电池效率从2009年的3.8%提高到2012年的9.7%,再到如今的19......
氧化铁纳米薄膜是一种具有优异光电特性的材料,具有化学稳定性好、储量丰富、成本较低等优势,在催化、电池、传感、磁记录等领域具......
由于具有独特的物理性能和特定的化学性质，纳米催化剂具有许多传统催化剂无法比拟的优异特性，其高活性、高选择性和高稳定性的优点已......
主要介绍了原子层沉积技术的历史背景、原理(包括两种自限制的反应机制、前驱体的要求与分类)以及原子层沉积本身作为一种涂层制备......
为扩大纤维素膜的使用范围,使其可应用于医用、建筑等领域,利用纳米氧化锌具有紫外线屏蔽、抗菌等特性,采用原子层沉积(ALD)技术在......
光学薄膜技术在快速发展的同时,遇到了无法实现某些高性能薄膜等问题。原子层沉积技术具有良好的台阶能力、精确控制膜层厚度以及......
将原子层沉积技术(ALD)与改进的化学气相沉积工艺(MCVD)相结合,制备Bi/Er共掺石英玻璃光纤,测试并分析光谱性能。实验结果表明:Bi/......
目的采用原子层沉积技术(ALD)制备了Al2O3@5A沸石分子筛复合材料,以提高材料的综合应用性能。方法采用三甲基铝为铝源,水为氧源,氮......
随着微电子行业的发展,集成度不断提高、器件尺寸持续减小,使得许多传统微电子材料和科技面临巨大挑战,然而原子层沉积(ALD)技术作......
薄膜晶体管(TFT)是有源矩阵有机发光二极管(OLED)驱动电路的核心元件。OLED是电流驱动型器件,传统的非晶硅TFT迁移率低,难以满足OL......
长周期光纤光栅（Long period fiber grating,LPFG）是一种重要的光纤器件,具有体积小、重量轻、抗电磁干扰等诸多优点,在现代光纤通信......
透明导电氧化物(TCOs)由于其在电学、光学和化学特性上的多样性而成为了基础研究和技术应用的激发材料。二氧化锡是一种非常重要的......
作为一项蕴含着巨大财富的新型科学技术，有机电致发光现象早在上个世纪60年代，即被人们发现。与其他发光技术相比，有机电致发光器件（Or......
众所周知摩尔定律已经快走到尽头了,集成电路的规模尺寸不断减小,然而,集成电路尺寸减小也面临着越来越大的挑战,金属氧化物半导体......
