氟化类金刚石薄膜相关论文
类金刚石薄膜具有很高的硬度,电阻率,电绝缘强度,光学透过率,热导率,化学稳定性,抗腐蚀性,低磨擦系数等优异的性能特点.已经成功地......
以高纯石墨做靶、氩气(Ar)和三氟甲烷(CHF3)为源气体,采用射频反应磁控溅射法在不同射频功率和流量比条件下制备了氟化类金刚石(F-......
以高纯石墨作靶、氩气(Ar)和三氟甲烷(CHF3)为源气体,用反应磁控溅射法在不同射频输入功率、流量比条件下制备了氟化类金刚石(F-DL......
用316L不锈钢(SU316L)作基片,以高纯石墨作靶、CHF3和Ar作源气体,采用反应磁控溅射法在不同射频功率、流量比R (CHF3/Ar)下制备了......
采用射频等离子体增强化学气相沉积法制备了氟化类金刚石薄膜.利用俄歇电子能谱、绝缘电阻测试仪、耐压测试仪和QS电桥对样品组分......
采用射频反应磁控溅射法用高纯石墨作靶、三氟甲烷 (CHF3)和氩气 (Ar)作源气体制备了氟化类金刚石 (F DLC)薄膜 ,通过XPS光谱结合......
类金刚石薄膜是80年代初出现的新型非金属薄膜材料之一 ,其优异的综合性能引起了人们极大的兴趣.本文对类金刚石薄膜的近期进展进......
以CF4和CH4为源气体，用射频等离子体增强化学气相沉积法，制备了氟化类金刚石（F-DLC）薄膜．采用FTIR仪、XPS对样品进行了测试、分析。结果......
以高纯石墨作靶、Ar/CHF3作源气体采用射频反应磁控溅射法室温下制备了氟化类金刚石薄膜(F-DLC).发现随着射频功率的增加,F-DLC薄......
以高纯石墨作靶、CHF3/Ar作源气体采用反应磁控溅射法制备出了氟化类金刚石(F-DLC)薄膜.拉曼光谱表明,CHF3相对流量的增加会引起薄......
以高纯石墨做靶、CHF3/Ar为源气体采用磁控溅射法在不同射频功率条件下制备了氟化类金刚石（F-DLC）薄膜.利用原子力显微镜、纳米压痕......
研究氟化类金刚石（FDLC）薄膜化学结构对光学性能的影响，用等离子体增强化学气相沉积（PECVD）法在玻璃基底上沉积氟化类金刚石（FDLC）薄膜，用......
研究了不锈钢基片上Si过渡层对F-DLC薄膜附着特性的影响.采用反应磁控溅射法,以Ar为源气体,在316L不锈钢基片制备了Si薄层,并在Si......
