等离子体化学气相沉积相关论文
通过表面处理来改善金属部件摩擦面的耐磨耐腐蚀物理性能,是具有重大技术需求的课题;将辉光放电等离子体技术与非金属陶瓷合金结合......
石墨烯因其独特的二维蜂窝状结构及其优异的性能,被称为新材料之王,因此制备石墨烯的方法也是越来越多,主要包括机械剥离法,外延生......
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在等离子体辅助化学气相沉积金刚石的设备中,进行了金刚石膜的沉积实验.实验室灯丝采用的是钨丝,可以根据不同的实验要求来选择不......
超级电容器(尤其是双电层电容器)具有功率密度高、充放电速率快、循环寿命达万次以上等优点,在诸多领域得到了广泛的应用。目前虽......
聚酯(PET)瓶具有质量轻、透明、强度高和可回收等特点,在世界饮料包装市场上已经占有一席之地。然而,PET瓶在用于包装啤酒等酒类产......
由于其独特的结构和电子性质,如高迁移率、常温量子霍尔效应等,石墨烯吸引了许多理论和实验研究者的关注。相对于硅高数万倍的载流......
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随着集成电路特征尺寸的减小，铜互连线上的电阻及信号延迟增大，抗电迁移能力减弱，使得电路可靠性降低。由于碳纳米管不会发生电迁移且......
氮化硼(BN)是一种性能优异，极具发展潜力和广泛应用前景的新型宽带半导体材料。其晶体主要有两种结构形式：sp~2杂化结构的六角氮化硼......
类金刚石(DLC)膜是含有sp3杂化态的亚稳态非晶碳膜,是具有极高的硬度、化学稳定性和光学透明性的半导体材料。这篇综述介绍了用等......
期刊
利用PECVD方法在硅片上制备了非晶硅薄膜,通过正交实验得出影响薄膜沉积速率和折射率的主要参数为气体流量和射频功率,分别研究了......
期刊
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
一、主要技术内容rn该成果利用等离子体的激发作用把传统的化学气相沉积(CVD)温度由1000℃左右降到550℃左右.这就使等离子体化学......
采用加热的调谐单探针技术,研究了射频辉光放电Ar等离子体空间电子能量分布函数,电子平均能量和电子密度,并系统分析了等离子体增......
为了研究不同光纤预制棒的生产工艺沉积包层、纤芯工艺流程以及反应原理对大芯径多模石英光纤传输损耗和激光损伤阈值等性能的影响......
在电弧法制备的过程中添加氮气或Ｂ２Ｏ３ 粉末，制备了氮、硼替位式掺杂Ｃ６０ 。硼掺杂和氮掺杂Ｃ６０ 均显示明显的半导体导电特性，且室温电导率比未掺......
利用13.56 MHz的射频等离子体化学气相沉积设备(RF-PECVD)在不同沉积温度(50~400℃)下制备了一系列氢化硅氧(SiO_(x)∶H)薄膜材料,......
为制备高质量的纳米晶硅薄膜,采用等离子体化学气相沉积方法,以硅烷、高纯氢为源气体,氢稀释率保持在98%,衬底温度200℃,反应气压1......
采用射频辉光放电等离子体化学气相沉积(RF-PCVD)法在聚碳酸酯(PC)表面沉积类金刚石(DLC)薄膜.研究了功率、气体浓度和沉积时间等......
期刊
研究了在热阴极辉光放电等离子体化学气相沉积金刚石膜过程中,热阴极辉光放电特性与金刚石膜沉积工艺的关系.结果表明,适当的阴极......
采用等离子体增强型化学气相沉积（PECVD）的方式,以硅烷（SiH4）、氢气（H2）、磷烷（PH3）以及二氧化碳（CO2）等气体为原料,制备具有宽带隙、高电导......
建立了快速沉积高品质金刚石膜的热阴极辉光放电等离子体化学气相沉积新方法．相对于常规冷阴极辉光放电而言，热阴极辉光放电是一种新......
通过建立二维自适应模型,对等离子体化学气相沉积系统反应室中SiH4/H2在射频辉光放电条件下的多物理场进行仿真模拟,模拟结果显示：......
推导了在设计真空镀膜设备时,计算镀膜室内布气管的直径和出气孔孔径的公式,di=[d-41-D-4L∑im=2(n+1-m)/(h+10-6Bq)]-1/4,以达到......
对电子回旋共振低温等离子体化学气相沉积工艺（ECR-PECVD）沉积GaN薄膜过程中的氮气和三甲基镓有机金属气体（TMG）混合气体等离子体发射......
采用等离子体增强化学气相沉积技术,以N_2掺入到SiH_4和H_2的沉积方式,分别在玻璃和N型单晶硅片(100)衬底上制备富硅氮化硅薄膜。......
采用等离子体化学气相沉积方法在镀Al玻璃及单晶Si衬底上制备了氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜,研究了样品在不同的热处理过程中Al对其晶......
采用射频辉光放电等离子体化学气相沉积系统,,以甲烷和氩气作为工作气体在PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)片和玻璃片基上沉积了非晶碳......
金刚石由于其低的介电常数、高的导热率和优良的机械性能,将其应用于微波管改善其散热性能取代传统有毒的氧化铍陶瓷,是微波管螺旋......
用等离子体化学气相沉积(PECYD)法,通过改变[SiH4:N2]/[NH3]的流量比沉积SiN薄膜.用椭圆偏振仪、准稳态光电导衰减法(QSSPCD)、X射......
研究型实验是培养大学生创新意识、创新能力和科学研究素养的重要教学内容.以等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术制备硅基薄膜为例......
利用电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECR-CVD)技术,以SiH4和N2为反应气体进行了氮化硅钝化薄膜的低温沉积技术的研究.采用原子......
PCVD镀膜技术是材料表面强化的重要方法,本文介绍了PVCD镀膜技术的研究现状、存在问题及发展趋势,重点就其应用于模具表面陶瓷化方......
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基于硅基光波导的平面光波电路(Planar Lightwave Circuits,PLC)技术,因其在晶片批量生产中的先进性,使其正在推动功能部件的应用......
学位
利用150kHz交流脉冲放电进行等离子体化学气相沉积（PCVD），使用Ti（OC3H7）4为源物质，在普通钠钙载玻片上制备了TiO2膜．主要考查了交流脉冲电......
研制了一台永磁ECR等离子体化学气相沉积系统.通过同轴开口电介质空腔产生表面波,利用高磁能积Nd-Fe-B磁钢块的合理分布形成高强磁......
采用PECVD工艺在普通玻璃衬底上制备非晶硅薄膜,用波长为532nm的倍频Nd：YAG激光对非晶硅薄膜的表层进行了晶化。研究了激光能量密度......
针对PECVD中等离子体的密度沿径向分布均匀性较差、空间气氛化学活性较差的问题，在PECVD的基础上加入电子发射源和正交电磁场以控制......
本文中利用等离子体化学气相沉积法,制备了具有Si过渡层的DLC薄膜.利用俄歇深度分析的方法,研究了Si过渡层沉积条件如电压、气压和......
对硬质合金刀具进行等离子体化学气相沉积氧化铝涂层处理，并将其与未涂层刀具试样在干摩擦条件下进行滑动摩擦试验，比较其摩擦磨损性......
相比原子层沉积(ALD),等离子体增强化学气相沉积技术(PECVD)在氧化铝钝化膜制备方面沉积速率快.利用板式PECVD在电池背表面制备氧......
对石英光纤紫外传输特性进行了研究和分析,提出一种石英紫外传输光纤的设计,并利用等离子体化学气相沉积（PCVD）工艺进行了光纤的制备......
期刊
【目的】具有超疏水性的木材可以抑制或减小木材表面对水分的吸收,从而延长并提高木材的使用寿命及性能,研究木材表面等离子体刻蚀......
期刊
利用X射线衍射(XRD)和X光电子能谱(XPS)等技术对射频-直流-等离子化学气相沉积(RF-DC-PVCD)在钢基体上Si-B-N复合薄膜的组成和结构......
本文采用27.12 MHz等离子增强化学气相沉积(PECVD)技术制备了氢化微晶硅薄膜材料,通过Raman散射谱、X射线衍射、扫描电子显微镜、......
本文报道用RFPECVD在低温衬底上制备了类金刚石碳 (DLC)膜。研究了氢稀释、气体压力和RF功率对薄膜性质的影响。用光透射率、红外......
期刊
锐钛矿相TiO2是一种用途广泛的材料，如在半导体光催化、染料敏化的太阳能电池、自清洁等方面具有重要应用。在这些实际应用中，需使用......
学位
Ti02薄膜已广泛应用于光催化、太阳能电池、生物及抗菌材料的研究。若在不耐热的基片材料(如塑料和棉织品)上沉积Ti02薄膜,则必需......
高气压、大电流直流辉光等离子体化学气相沉积方法能够快速沉积高品质金刚石膜。然而，高气压下直流辉光放电和以往的低气压直流辉光......
采用ICP等离子体化学气相沉积技术,用硅烷和氮气为反应气体合成氮化硅纳米粉体.利用朗缪尔探针诊断了反应室内等离子体参数,得到不......
