类金刚石膜相关论文
类金刚石膜是一种由sp~3和sp~2混合的亚稳态碳膜。因其良好的力学性能、较低的摩擦系数、优异的抗磨损性能，在石油、航空航天、汽车......
类金刚石（DLC）薄膜是近年来备受关注的一类薄膜材料。由于其诱人的性能,它们被认为是电子、光学和防磨损应用的重要材料。化学惰性、......
常用的硫化锌衬底增透膜系存在硬度低，保护效果差等问题，难以满足在恶劣环境使用的要求。在真空中用准分子激光制备了高红外透射率、......
类金刚石(DLC)膜具有宽光谱高透射率、高硬度、高热传导及高稳定性等优点，是红外窗口增透保护膜的优选，但现有方法制备的类金刚石膜......
概括了光学级类金刚石(DLC)膜的优点与性能, 对最常用的几种制备类金刚石膜的方法——脉冲激光沉积法、磁过滤电弧沉积法、射频辉......
提出了磁场辅助激光沉积类金刚石(DLC)膜技术, 在硅基底附近添加磁力线向基底收拢的磁场, 用以迫使侧向飞行的离子向基底靠拢并参......
针对脉冲激光沉积(PLD)薄膜装置,建立了时间分辨等离子体发射光谱测量系统,在沉积类金刚石(DLC)薄膜时,通过对CII(426.7 nm)和CIII......
激光沉积的类金刚石膜是红外窗口增透保护膜的极佳选择。采用波长248 nm的纳秒脉冲激光沉积硅基底类金刚石膜,研究了不同脉冲能量......
由于激光烧蚀靶材形成的等离子体羽辉呈高斯分布,导致沉积的大面积薄膜尤其是球面衬底上的薄膜极不均匀,严重限制了脉冲激光沉积法......
利用ＫｒＦ超短脉冲激光器（２４８ｎｍ，５００ｆｓ，１０ｍＪ）开展了超短脉冲激光淀积类金刚石薄膜的实验研究，薄膜生长速率０．０２ｎｍ／ｐｕｌｓｅ，厚度０．５～０．６μｍ，显微硬度５５ＧＰａ，光学透过率优于９０％（５８０～２０μｍ）。采用等离子体的......
提出了双激光沉积掺杂薄膜技术,利用准分子纳秒激光和飞秒激光分别烧蚀石墨和锗靶材,保持准分子纳秒激光的参数不变,而将飞秒激光......
采用双磁过滤阴极真空弧和磁控溅射沉积法,在Cu基体表面上制备了以钛(Ti)和钛化碳(TiC)过渡层材料的Cu掺杂非晶类金刚石(DLC)薄膜.......
期刊
负氢离子源已经成为核聚变装置中性束注入加热系统的首选离子源,优异的负氢离子表面转化材料是其中的关键.金刚石膜具有的负的电子......
类金刚石（DLC）膜具有摩擦系数低、硬度高、耐磨性好等众多优异的性能，在诸多领域表现出了良好的应用前景。制备DLC膜的传统方法为气相......
近几年来，类金刚石膜(Diamond-LikeCarbonFilmDLC)凭借其优良的物理、化学性能，可以被大量应用于微机电系统(MEMS)和高密度信息存储......
类金刚石（DLC）膜由于具有高硬度、低摩擦系数、耐磨性能好、热传导率高等一系列优越的综合性能，近年来引起了科学界的极大兴趣，特别是......
本文采用非平衡磁控溅射方法在调质处理后的AISI 4118铬钼钢表面沉积了含Ti类金刚石(Ti-DLC)膜。利用高分辨电子显微镜(HREM)、原......
人工机械心脏瓣膜失效主要有两个方面原因,一方面是生物性能上的,例如血栓形成与细菌粘附等,另一方面是力学性能上的,例如瓣膜基体......
类金刚石膜具备许多优异的性能,包括高耐磨性、低摩擦系数、热稳定性、红外透光性、高电阻、低介电常数、高疏水性以及生物相容性,......
学位
类金刚石(diamond-like carbon,DLC)薄膜具有高硬度、高弹性模量、优异的减摩耐磨性能、良好的光透过性、较强的化学稳定性和生物......
介质阻挡放电是一种较高气压范围下产生非平衡等离子体的放电方式。利用介质阻挡放电沉积碳氢薄膜，是一种新颖的方法。该方法具有放......
微波-ECR等离子体增强化学气相沉积和等离子体增强非平衡磁控溅射两种工艺同步进行,可制备半导体、合金材料,而且能制备性能优异的......
本文探讨了利用微波ECR全方位离子注入技术和等离子增强化学气相沉积技术来制备类金刚石膜(工作气体为甲烷)的方法，并将两种方法相......
类金刚石膜(Diamond-like carbon),是一种非晶态的碳材料。由于具有许多同金刚石相近的性质,类金刚石膜技术已经在很多领域得到应......
类金刚石膜(DLC)具有与金刚石膜相似的许多优异性能,例如高硬度、高耐磨性、低摩擦系数、抗化学腐蚀性等等,因此在金属管内表面沉......
为解决手表外观件镀层的附着力和硬度不高而产生的膜层脱落和磨损露底等问题,采用阳极层流型气体离子源结合非平衡磁控溅射技术制......
离子束沉积类金刚石膜是钢表面改性的一项新技术。类金刚石改性膜层显微硬度和表面电阻率在特定轰击能量下出现峰值 ;双离子束轰击......
使用原子力显微镜(AFM)中的侧向力(LFM)模式对类金刚石膜纳米尺度的摩擦现象进行了研究,主要考察了载荷、微观形貌、粘附对类金刚......
由于采用脉冲放电沉积技术能够克服连续电弧离子镀沉积时产生的液滴及负偏压放电的缺点,特别是它在镀制类金刚石薄膜中显示出来的......
本文采用等离子源离子注入(PSII)技术在硅衬底上制备薄膜,利用Raman光谱表征制备薄膜的类金刚石特性.详细介绍了采用原子力显......
提出一种新型复合固体润滑膜,并讨论了该复合膜的结构和作用机理。复合结构的基本组成是传统硬质涂层TiN和TiC的结合,最上面的固体......
以高纯石墨为靶材、氩气(Ar)和甲烷(CH4)为辅助气体,利用中频脉冲非平衡磁控溅射技术在不同气体压强比例下制备了类金刚石薄膜,采......
采用RF-PECVD法在锗（Ge）基片上沉积类金刚石（DLC）薄膜,研究了气体流量和气压对沉积区域均匀性的影响,以及基片厚度与沉积时间的关系。......
采用大功率、高重复频率、准分子激光溅射热解石墨靶制备了类金刚石膜,研究了直流辉光氢等离子体处理对类金刚石膜的场发射性能的......
采用分子动力学 (MD)模拟研究了离子束辅助沉积 (1BAD)生长类金刚石 (DLC)膜的物理过程 .分别选C2 分子和Ar离子作为沉积源和辅助......
将等离子增强非平衡磁控溅射物理气相沉积(PEUMS-PVD)和电子回旋共振-微波等离子体增强化学气相沉积(MW-ECRPECVD)技术相结合,通过......
实验上,利用纯CH4及CH4+Ar在几百帕量级气压下的介质阻挡放电制备类金刚石膜,研究了气压p与放电间隙d乘积(pd值)以及Ar的体积百分......
强流金属离子注入和等离子体薄膜沉积是高效率低成本的材料表面加工新技术,具有巨大的产业化前景.该技术可以大幅度直接提高材料表......
采用两种不同脉宽(30 ns,500 fs)的KrF准分子激光淀积类金刚石薄膜, 通过等离子体发射光谱和离子探针的测量, 研究了激光等离子体......
采用无灯丝离子源结合非平衡磁控溅射的方法,大面积地在不同基体上制备了光滑、均匀的类金刚石(DLC)膜层,用SEM、Raman、XPS、硬度......
类金刚石膜具有高硬度、高光洁度、低摩擦系数、高耐磨性及耐腐蚀性等很多优异性能,并且易于掺杂而改变性能以适应不同需要.良好的......
采用离子注入与反应磁控溅射相结合的方法在钛合金及硅片基体表面上制备了纳米TiC类金刚石(DLC)复合膜.通过纳米压痕技术检测了薄......
对含50%AlN颗粒的铝基复合材料进行预处理后,在其表面依次采用浸锌化学镀镍工艺制备Ni-P过渡层,采用脉冲偏压磁过滤多弧离子镀工艺......
期刊
针对传统方法制备类金刚石(DLC)膜存在的3～5μm波段红外透过率低这一难题,采用飞秒脉冲激光沉积(PLD)法在红外材料硅基底上镀制DLC......
脉冲激光沉积法是一种制备类金刚石膜(DLC膜)的新技术。总结了脉冲激光法制备DLC膜在激光源、脉宽、沉积气氛及薄膜掺杂等方面的发......
由于激光烧蚀靶材形成的等离子体羽辉呈高斯分布，导致沉积的大面积薄膜尤其是球面衬底上的薄膜极不均匀，严重限制了脉冲激光沉积法的......
非金属掺杂类金刚石(DLC)膜可以优化纯类金刚石膜的一些性能。例如:掺磷DLC膜电阻率小,还可以明显提高其血液相容性;掺氮DLC膜不仅......
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