本文介绍各种类型ＥＣＲ等离子体源和工艺研究，以及由此发展形成的几种新型刻蚀技术。 This article describes the various types of EC......

不少的教科书特别是有机化学教科书在分析羧酸酸性与其结构关系时是这样说的:一个羧酸的酸性强度,主要决定于羧酸和它的离解负离子......

对美国测试与材料学会提供的二氧化硅标准样品,用四台电子能谱仪进行了氩离子对二氧化硅的溅射产额的会测。在1KeV、3KeV 和5KeV ......

离子源是各种类型质谱仪、离子加速器、离子注入机、离子束刻蚀机等电真空设备不可缺少的部件,静电透镜系统是离子源的重要组成部......

本文主要研究了表面预处理、轰击离子能量、离子密度、温度、沉积时间等离子束工艺参数对单晶Si表面沉积的Ti薄膜结构的影响.......

在本文中测量了由中国原子能科学研究院的HI-13串列加速器提供的20-50MeV的F5+离子碰撞Pb原子产生的L壳层X射线谱和散射离子的背散......

分析了溅射产额的影响因素 ,并建立了产额模型。该模型能反映各种宏观工艺参数 ,便于工程应用。对钛靶的计算结果表明与实验结果相......

实验上,利用纯CH4及CH4+Ar在几百帕量级气压下的介质阻挡放电制备类金刚石膜,研究了气压p与放电间隙d乘积(pd值)以及Ar的体积百分......