等离子体源离子注入相关论文
在等离子体材料表面加工技术应用中，等离子体鞘层的时空演化过程对等离子体与材料表面相互作用有着非常重要的意义。等离子体源离子......
等离子体源离子注入(PSII)是一种有效的离子注入技术，利用这一技术可以改变材料表面性能，它从根本上克服了传统离子注入技术所存在的......
等离子体源离子注入(PSII)已经广泛应用于材料表面改性和半导体加工领域。在这一技术的实际应用过程中，等离子体鞘层的时空演化过程......
等离子体源离子注入(Plasma Source Ion Implantation，简称PSII)是一项非视线性低温等离子体材料表面的改进新技术。这项技术一经提......
栅极增强等离子体源离子注入(GEPSⅡ)一种新的金属管本内壁处理方法,该方法能够均匀地对金属管件内壁进行离子注入,并且能够生成二......
采用等离子体源离子注入技术(PSII),对Cr12MoV钢进行了氮离子注入,用俄歇电子能谱仪和透射电子显微镜对注入层的成分和组织进行了......
综述了近年来国内外对等离子体源离子注入离子鞘层理论研究的进展情况. 介绍了研究离子鞘层扩展动力学所常用的几种计算方法并通过......
等离子体源离子注入过程中,鞘层的演化规律直接影响到离子注入到材料中的深度进而影响材料表面的性质和结构,对材料的不同部位这种......
利用在管材中心引入同轴接地电极并在金属管材上加脉冲负偏压以产生径向离子加速电场,实现了金属管材内表面离子注入.目前国内外还......
针对PSII方法处理圆柱管件内表面过程,利用离子的连续性方程、运动方程和Poisson方程建立了流体力学模型,通过数值模拟研究了磁场......
用等离子体源离子注入技术对GCr5钢进行了氮离子注入.对注入层的成分进行了俄歇剖面分析,对注入层的显微硬度和摩擦性能进行了测试......
采用等离子体源离子注入和电子回旋共振-微波等离子体辅助化学气相沉积技术相结合的方法在Si衬底上制备出了性能良好的类金刚石膜.......
采用非平衡磁控溅射与等离子源离子注入(PSII)的混合技术,在1Cr18Ni9Ti不锈钢上制备N/Ti,N/TiN/C/DLC多层膜,研究其结构和微动磨损......
通过低压非稳态扩散流体模型和鞘层碰撞流体模型数值模拟了等离子体源离子注入（PSII）金属圆管内表面改性过程中的多脉冲鞘层动力学行......
用非平衡磁控溅射与等离子体源离子注入(PSII)的混合技术,研究了类金刚石碳(DLC)多层膜对1Cr18Ni9Ti钢微动磨损性能的影响.结果表......
应用PIC-MCC方法模拟了氩离子等离子体源离子注入过程，考虑了离子与中性粒子的电荷交换碰撞和弹性散射，模拟了不同电压、不同气压及......
本文利用中心电极射频感应等离子体对金属管件内壁进行表面改性处理,验证了该方法的合理性以及可行性.利用该方法制备出了类金刚石......
在带有共轴零电位附加电极的空心圆管等离子体源离子注入过程中,附加电极半径的大小直接影响到空心圆管端点内表面、端点表面和外......
本文利用两维流体模型研究了半圆形容器在放置共心零电位附加电极情况下，等离子体源离子注入的离子鞘层时空演化动力学过程。考察了......
在等离子体源离子注入（PSII）技术中，被加工材料表明形状的弯曲使附近鞘层中电场结构出现聚焦效应，从而引起离子束流和离子注入剂量在材......
利用双放电腔微波等离子体源全方位离子注入设备,分别采用等离子体增强化学气相沉积技术、等离子体源离子注入和等离子体增强化学......
采用蒙特-卡罗方法对柱形空心阴极的氮离子（N^＋，N2^＋）注入进行了研究，考虑了氮离子与中性原子的电荷交换和弹性碰撞，计算了氮离子在不同压......
建立了一维无碰撞流体动力学模型，针对柱形容器，考察了无附加电极和在中心轴线处放置零电位附加电极两种情况下，空心圆管内部等离子体......
介绍了等离子体源离子注入装置PSII-EX原型机和PSII-IM工业样机,并对其功能、主要技术指标及特点作了简述。等离子体源离子注入处......
阐述了栅极增强等离子体源离子注入 (GEPSII)方法的基本思想 .利用GEPSII方法在 4 5号钢基底上生成了金黄色氮化钛 (TiNx)膜 .对不......
等离子体源离子注入（PSII）作为一种重要的材料表面加工改性技术,主要被应用于金属及半导体材料表面改性领域。由于特有的优势（例如成......
在等离子体材料表面加工技术应用中,等离子体鞘层的时空演化过程对等离子体与材料表面相互作用有着非常重要的意义。针对等离子体......
通过SRIM软件对铪离子等离子体源离子注入铜进行了模拟。模拟了铪离子注入铜的核阻止本领、电子阻止本领、入射深度随能量的变化,......
