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溅射功率对磁控溅射法制备MgF2薄膜组织和性能的影响
为了减少磁控溅射法沉积MgF2薄膜的F贫乏缺陷,在工作气体Ar2中加入SF6作为反应气体,在石英玻璃衬底上用射频磁控溅射法制备了MgF2......
期刊
MgF2薄膜
F贫乏
透光率
减反射
溅射功率
磁控溅射
MgF2 thin filmF deficiencytransmittanceantireflecti
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