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直流磁控反应溅射法制备工艺参数对TiO2薄膜光催化性能的影响
采用直流磁控反应溅射法在未加热衬底上沉积TiO2薄膜,以紫外灯为光源进行了薄膜光催化降解亚甲基蓝溶液的实验,研究了沉积工艺参数......
期刊
TiO2薄膜
磁控溅射
光催化
制备工艺参数
TiO2 thin films
maganetron sputtering
photocatalytie
prep
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