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为了研究溅射电流对磁控溅射沉积钛薄膜光、电学性能的影响,在其它工艺参数相同的情况下改变溅射电流(0.3 A～0.8 A)制备了6组薄膜样......
用泵浦-探测技术测量了金属-介质复合薄膜Cu-Ba-O的光学透射率在超短激光脉冲作用下随延迟时间的瞬态变化曲线,获得了薄膜对光的透......
使用微波回旋共振离子源，研究了低能Ar^＋束在不同入射角度下对旋转单晶硅（100）表面的刻蚀效果及其光学性能。结果表明：样品旋转、离子束......
为了精确控制曝光剂量,需要精确测量光刻系统的光学透射率。采用了双光路对比的方法进行透射率测量,有效地消除了准分子激光器能量......
纳米磁流体是一种由纳米级的强磁性颗粒通过表面活性剂高度均匀分散于某种载液中所形成的稳定的胶体溶液。它具有液体的流动性和光......
采用等离子体增强化学气相沉积类金刚石(DLC)薄膜、高真空磁控溅射镀膜设备溅射Ag靶的方法制备了不同厚度Ag、DLC层的DLC/Ag/DLC多......
采用由金属蒸汽真空弧离子源(MEVVA)引出的强束流脉冲Ag、Cu离子,先后注入到SiO2玻璃.注入的剂量均为5×1016ions/cm2,Ag的加速电......
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