二氧化硅在VLSI中起着极其重要的作用.氧化层击穿是MOS VLSI的主要失效机理,并已成为电子设备中可靠性问题的重要原因。难解决的......

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目的：观察三种复温方法对体温过低兔的效果及低温复温时血清肌酸激酶（CK）和脂质过氧化物（LPO）含量的影响，同时探讨电磁局部高热在复温中......