选取Si-Na-Zn-Al体系作为玻璃基质,Ce 4 和Ag 分别作为光敏因子和热敏因子;通过优化紫外曝光剂量与热处理条......

研究了ＧｅＳｉＯ２光敏缺陷的特性，分别在４８８ｎｍＡｒ离子激光与１９３ｎｍＡｒＦ准分子激光作用下，由紫外吸收带、激光荧光的测量实验及电子自旋共振实验，发现光纤中５．１ｅＶ锗缺陷吸......

在深紫外LIGA加工中,制作高精度大高宽比的微器件是很困难的。难点在于SU-8光刻胶对紫外光的吸收系数随着波长变短而很快变大,而且......

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目的 探讨胸部正位增感屏/胶片(屏/片)与CR摄影的合理曝光条件间的剂量差异.方法 以10 mAs、20 mAs、40 mAs档,分别从50～150 kVp、......

目的 比较CR与非晶体硅DR在胸部摄影中入射剂量的差异,探讨两者最优化曝光剂量.方法 应用CR、DR分别别胸部模体行不同入射剂量曝光......