深紫外光刻相关论文
为满足45 nm及其以下节点光刻技术对照明系统的需求,将深紫外光刻照明系统的光束整形单元所采用的微反射镜阵列(MMA)作为关键器件,......
在超大规模集成电路中, 为满足数值孔径为1.35、波长为193 nm的光刻曝光系统45 nm的成像分辨率要求, 设计了一种新型光可变衰减器,......
深紫外光刻投影物镜光学系统对光学元件的面形精度要求极高，物镜中轴向调节机构调节力对光学元件面形的影响不可忽略。针对一种一体......
采用深紫外光刻及等离子体刻蚀等工艺制备基于绝缘体上硅材料的环形滤波器,且微环半径仅为5μm。制备基于单微环的4通道光分插复用......
表面等离激元（Surface Plasmon polaritons，SPPs）是金属中的自由电子和外加光场之间耦合而产生的一种电磁波。表面等离激元共振（Surfac......
