靶电流相关论文
类金刚石（DLC）薄膜具有高硬度、良好的化学稳定性、低摩擦系数等一系列优点而受到广泛关注。但由于制备技术的限制,导致薄膜存在内应......
为了沉积高质量的硬质薄膜,避免直流反应溅射出现的靶中毒和打火现象影响薄膜质量和色彩。采用中频反应磁控技术在不锈钢基体上沉......
目前,电弧离子镀技术已发展成为薄膜技术领域中的一项重要的技术类别。电弧离子镀有提高靶材离化率、靶材离子动能以及薄膜沉积速......
采用多弧离子镀技术在 40Cr 基体上制备 TiAlN/TiN 复合膜层,通过金相显微镜、扫描电镜和显微硬度仪研究靶电流对膜层表面形貌、沉......
利用磁控溅射的方法成功制备Ti掺杂类石墨碳(Ti-GLC)膜.采用拉曼光谱、X射线光电子谱(ⅪS)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(A......
