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高次非球面相关论文
大数值孔径产业化极紫外投影光刻物镜设计
极紫外光刻技术(EUVL)是半导体制造实现22 nm及以下节点的下一代光刻技术,高分辨投影物镜的设计是实现高分辨光刻的关键技术。为设计......
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物镜
数值孔径
光学设计
光刻技术
高次非球面
视场
非球面反射镜
调制传递函数
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大口径高次非球面补偿检测方法的研究
大口径光学系统具有更高的成像分辨率,更强的集光能力,因此在天文望远镜、空间成像系统等有着很多应用。随着光学加工技术不断进步......
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高次非球面
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