【摘 要】
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该文围绕SmCo(Al,Si)/Cr系列多层膜的设计、制备和性能检测等方面,进行了系统、深入的研究.实验上,用身频磁控溅射的方法成功制备出了SmCo/Cr、SmCoAlSi/Cr及SmCo(Al,Si)/Cr
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该文围绕SmCo(Al,Si)/Cr系列多层膜的设计、制备和性能检测等方面,进行了系统、深入的研究.实验上,用身频磁控溅射的方法成功制备出了SmCo/Cr、SmCoAlSi/Cr及SmCo(Al,Si)/Cr系列单层和多层交换耦合磁性膜,测量了薄膜的微观结构和基本磁特性,采用高纯氮气(纯度99.99﹪)保护下退火工艺,使溅射态薄膜部分晶化,改善了矫顽力和晶粒尺寸,对现存检测系统进行了改进,采用隔振技术和Matlab软件,研究了薄膜的热稳定性问题,提出了一种简单的计算居里温度的方法,指出矫顽力随温度的增加单调降低,而M<,r>δ剩磁厚度积随温度的变化规律比较复杂.理论上,利用Neel-Arrhenus方程,提出了进一步提高记录面密度,改善介质稳定性,提高信噪比(SNR)的方法,对超高密度磁记录介质的磁性能提出了具体的技术指标要求,指出高矫顽力必须具有尺寸细小、以向度高且耦合小的硬磁相晶粒,计算了SmCo薄膜的稳定尺寸,其值达2.5nm,分析了SmCoAlSi/Cr薄膜的织构和晶格匹配的选区衍射花样,采用自由电子模型,较全面讨论了FM和NM的层间交换耦合IEC作用机理,计算了FM/NM/FM层间耦合强度;通过对原子间的交换作用的讨论,分析了SmCo(Al,Si)磁性层硬磁相中原子间的耦合机制,对于分析耦合与噪音等性能之间的关系有重要意义.
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