【摘 要】
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该研究采用自制的MOCVD设备,通过对MOCVD反应室结构的改进,系统研究了MOCVD技术制备薄膜的工艺、沉积膜的组织结构,并重点研究了膜的组织结构特征.采用碳基镍Ni(CO)为沉积源
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该研究采用自制的MOCVD设备,通过对MOCVD反应室结构的改进,系统研究了MOCVD技术制备薄膜的工艺、沉积膜的组织结构,并重点研究了膜的组织结构特征.采用碳基镍Ni(CO)<,4>为沉积源来沉积镍薄膜,研究了沉积温度、反应室工作压力、载气流量等工艺参数对膜沉积速率的影响.利用光学显微镜、SEM、XRD、DSC、AFM等分析手段,分析了沉积膜的组织结构,探讨了沉积基体.沉积温度、载气流量、载气及碳基镍分玉对组织结构的影响规律.该文第一部分综合介绍了薄膜的结构以及国内外采用MOCVD法沉积薄膜的发展状况,并阐述了该课题研究的目的及意义.第二部分是沉积设备的改进,介绍了该设备的组成及工作原理.第三部分是该文的核心,研究了膜制备的工艺,并着重探讨了膜的组织结构.第四部分对膜的形成机制进行了分析.
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