【摘 要】
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在真空镀膜领域内,空阴极放电(简写为 HCD)已被成功地制成空阴极放电电子束蒸发源[包括热空阴极和电子注膜(即 EBMD)两种]和空阴极放电溅射镀膜装置。一、HCD 的结构、工作
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在真空镀膜领域内,空阴极放电(简写为 HCD)已被成功地制成空阴极放电电子束蒸发源[包括热空阴极和电子注膜(即 EBMD)两种]和空阴极放电溅射镀膜装置。一、HCD 的结构、工作原理和特性这里只涉及常见的热空阴极放电。1.结构和工作参数热空阴极电子枪的结构见图1。它由水冷阴极根部、空阴极、阳极和限制磁场构成。
In the field of vacuum coating, the empty cathode discharge (HCD) has been successfully made into a cathode discharge electron beam evaporation source [including both hot cathode and electron injection (EBMD)] and a hollow cathodic discharge sputtering coating Device. First, the HCD’s structure, working principle and characteristics Here only involves the common hot cathode discharge. 1. Structure and Operating Parameters The structure of a hot cathode cathode gun is shown in Figure 1. It consists of a water-cooled cathode root, a hollow cathode, an anode and a confined magnetic field.
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