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Ni—Mn-Ga是一种磁致伸缩材料、它兼具形状记忆效应和磁致伸缩效应等多种功能特点，具有响应频率高，变相量大的优点。而PbZrTiO3（PZT）是一种压电陶瓷，具有力．电转换的功能，而且也具有较高的响应频率。为实现磁-力-电的快速转换，本文使用ECR磁控溅射方法在PZT压电陶瓷片上制备出了Ni—Mn—Ga薄膜。并研究了不同溅射功率和热处理条件对薄膜的组织形貌、成分、表面粗糙度及薄膜硬度的影响。SEM断面形貌显示Ni—Mn-Ga薄膜为柱状生长模式；AFM三维形貌显示Ni-Mn-Ga薄膜生长致密，表面粗糙度随