【摘 要】
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对乙硼烷与HX形成的二氧键复合物的结构特征及本质进行探讨.在MP2/6-311++G(3d,3p)水平优化、频率验证所得复合物的分子结构,通过分子间距离及H…H间的拓扑参数,确认B2H6与卤
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对乙硼烷与HX形成的二氧键复合物的结构特征及本质进行探讨.在MP2/6-311++G(3d,3p)水平优化、频率验证所得复合物的分子结构,通过分子间距离及H…H间的拓扑参数,确认B2H6与卤化氢形成二氢键复合物.在MP2/6-311++G(3d,3p)水平校正BSSE后的结合能在-7.0124 kJ/mol~-4.6652 kJ/mol之间.用对称匹配微扰理论(SAPT)分解结合能,结果静电作用是B2H6与HX形成二氢键复合物的必要条件和重要的推动力,但又并不完全是静电所致,总之,静电、诱导、色散等作用对二氧键的形成都是重要的.
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