【摘 要】
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在ICP（inductively coupled plasma）刻蚀后的硅模板上复制聚二甲基硅氧烷（PDMS）,经剥离得到含有一定尺寸的规则微柱阵列疏水表面.实验表明,当微柱高度较小时,微柱高度和边长对接
【机 构】
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厦门大学化学化工学院化学系,厦门大学萨本栋微机电中心
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在ICP（inductively coupled plasma）刻蚀后的硅模板上复制聚二甲基硅氧烷（PDMS）,经剥离得到含有一定尺寸的规则微柱阵列疏水表面.实验表明,当微柱高度较小时,微柱高度和边长对接触角有正影响,而间距则呈负影响;但如微柱高度较大,则高度对接触角的影响趋小,而边长呈负影响.间距对接触角的影响表现复杂.微柱间距6μm,边长14μm和高14μm微柱阵列的PDMS表面,静态接触角最大,约151°.
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