【摘 要】
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采用真空电子束蒸发金属薄膜及后续热氧化技术在石英衬底上分别制备出了ZnO、Al∶ZnO以及Sn∶ZnO薄膜。通过X射线衍射仪（XRD）,紫外-可见分光光度计和原子力显微镜（AFM）等分析仪器
【机 构】
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上海理工大学光电信息与计算机工程学院,上海理工大学上海市现代系统光学重点实验室
【基金项目】
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国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(2013AA030602);上海市自然科学基金资助项目(13ZR1427800);国家自然科学基金资助项目(61176085;11105149)
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采用真空电子束蒸发金属薄膜及后续热氧化技术在石英衬底上分别制备出了ZnO、Al∶ZnO以及Sn∶ZnO薄膜。通过X射线衍射仪（XRD）,紫外-可见分光光度计和原子力显微镜（AFM）等分析仪器对比研究了Al、Sn掺杂对ZnO薄膜结晶质量、光学性质及表面形貌的影响。测试结果表明,Al、Sn掺杂可以使薄膜结晶质量得到提高,薄膜应力部分释放,薄膜表面的粗糙度也相应增加,掺杂对薄膜光学带隙的影响在一定程度取决于金属薄膜的氧化程度,氧化充分可以使光学带隙变宽,反之则变窄。
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