【摘 要】
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通过PROLITH光刻仿真软件研究了非理想照明光瞳对光刻成像质量的影响以及图形位置偏移量对光瞳偏心的敏感度随数值孔径NA和相干因子矿的变化规律。仿真结果表明：在无像差的理
【机 构】
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中国科学院光电技术研究所,中国科学院大学
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通过PROLITH光刻仿真软件研究了非理想照明光瞳对光刻成像质量的影响以及图形位置偏移量对光瞳偏心的敏感度随数值孔径NA和相干因子矿的变化规律。仿真结果表明：在无像差的理想光学系统中，光瞳偏心主要影响图形的位置偏移量，图形的位置偏移量与离焦量成线性关系，直线的斜率随着偏心量的增大而增大。光瞳偏心对H-Vbias和焦深（DOF）的影响较小。光瞳偏心和极不平衡性两者对图形位置偏移量的综合影响是这两者单独引起的图形位置偏移量的叠加。
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