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基于Lam 4420反应离子刻蚀(RIE)设备和Cl2气体开发了适用于沟槽栅IGBT的深槽等离子刻蚀工艺。通过调整HBr、O2和SF6等添加气体含量......
研究了 (CH3) 2 S2 和 Cl2 在水中的反应机理 ,得到了总速率方程为 d[HCl]/ dt=k[Cl2 ][(CH3) 2 S2 ],在 1 5℃和常压下测定了反应......
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