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Kirk效应相关论文
    利用衬底电流双峰优化0.6um BCD工艺中40V LD-MOS的厚栅氧化层
    本文通过用双峰的衬底电流效应分析了热电子限制SOA和电子SOA在40V LDMOS栅氧层的形成机理,并且通过新流程设计改进了LD-MOS的SOA.......
    期刊
    LDMOS Kirk效应 SOA BCD

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