光刻物镜相关论文
为了降低紫外光刻投影物镜受环境温度稳定性引起的性能恶化（主要是焦面偏移等）,借鉴空间红外光学的无热化的研究成果,并结合投影物镜......
投影曝光工艺是集成电路制造过程中的关键环节，ArF光刻投影曝光作为实现100～32 nm特征尺寸微细加工的首选技术，其中光刻物镜的光学性......
针对光刻物镜对镜片间隔调节精度高、范围大的需求，提出一种利用气体压差提供驱动力的压力双膜片轴向调节机构。并对该轴向调节机构......
极平衡作为光刻物镜的一项重要指标，受到多种误差因素综合调制，因此有必要准确区分各种误差源的独立贡献量。提出了一种标定方法，将远......
介绍 0 .35μm分步重复投影光刻物镜的设计要点 ,包括数值孔径、结构型式的确定、材料的选择。介绍了光刻物镜设计的难点、创新点......
