大数值孔径相关论文
在纳米激光直写加工系统中，显微物镜是其中的关键部件，行业发展的趋势是在大数值孔径下具有更大的物方视场，并且能适应TPP胶折射率的......
非球面柱面透镜是一种重要的微光学元件，具有激光准直、聚焦、匀化等功能，在激光通信、光纤传感、激光雷达测距、激光泵浦等系统中具......
色散控制在诸多应用领域至关重要。基于传统色散调控方法的光学元件及系统具有体积大、笨重、衍射受限等问题。超表面能对光波的振......
投影曝光工艺是集成电路制造过程中的关键环节，ArF光刻投影曝光作为实现100～32 nm特征尺寸微细加工的首选技术，其中光刻物镜的光学性......
基于德拜矢量积分理论，研究了随机电磁涡旋光束经过大数值孔径透镜之后的聚焦特性及透镜的数值孔径、入射光束的偏振度、拓扑荷以及......
根据里查德一沃耳夫矢量积分理论，研究了在径向偏振光经大数值孔径聚焦下，透镜球差对瑞利粒子轴向光阱力的影响。通过数值计算得到了......
光子晶体光纤是一种具有轴向取向微结构的光纤,在许多性能方面都优越于传统光纤,如高双折射、大数值孔径、高非线性、低限制损耗等......
精密光学系统在航空航天、高端装备制造等高精尖领域广泛应用,对我国科技水平和综合国力发展有重要意义。光学元件作为光学系统的......
在193 nm光刻中,已证明水是一种适于浸液式光刻的液体.浸液式光刻提出了一种可将传统的光学光刻拓展到45 nm节点,甚至到32 nm节点......
该文列出了i线和g线大数值孔径亚微米投影光刻物镜的技术指标要求，讨论了这类超高精度光刻物镜的光学装校技术特点，报告了计算机辅助......
总结了使用MCVD设备制备大芯径、大数值孔径光纤预制棒的新工艺.探索在不掺硼的情况下,在预制棒芯层逐层增加GeCl4的流量.在内包层......
大数值孔径光纤在观测系统中，实现了大视野、大角度观察，因此在军事、医学，工业等领域具有广泛的应用需求。本文为了提高光纤的数值孔......
用SiO2-B2O3-La2O3-Nb2O6-RO系统玻璃作纤芯,用低折射率材料作包层相匹配拉制的非相干柔性光纤的数值孔径为0.8725,光的接受角为12......
导出了相邻阶第二类变型贝塞尔函数的比值在小宗量的逼近形式 ,利用Lentz Thompson方法计算相邻阶第一类贝塞尔函数的比值在小宗量......
为了实现轻量化的大数值孔径红外透镜,基于模式耦合理论,建立了金属薄膜上方形孔对入射光场相位调制与方孔边长尺寸、深度的关系,......
根据球面干涉检测中待测球面调整误差的高阶近似模型，提出新的基于泽尼克多项式拟合的球面调整误差校正方法．该方法根据测得原始面形......
为了获得多种类型的波长量级聚焦光斑,研究了一种新型涡旋光束,高次方涡旋光束经过大数值孔径透镜的聚焦。基于矢量德拜积分公式,......
基于德拜矢量积分理论,研究了随机电磁涡旋光束经过大数值孔径透镜之后的聚焦特性及透镜的数值孔径、入射光束的偏振度、拓扑荷以......
基于矢量德拜理论,研究了双环角向偏振涡旋光束经大数值孔径透镜的聚焦,且在聚焦场中考虑存在两种不同介质。研究表明当涡旋光束的......
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大数值孔径多组分玻璃柔性光纤在医用光纤内窥镜中具有广阔的应用前景。采用La2O3-Nb2O5-SiO2-B2O3-RO玻璃系统作纤芯,用自制相匹......
在高精度的光学加工和装调过程中,相应的高精度检测技术具有着重要的辅助和保障作用。在众多的光学检测方法中,点衍射干涉检测技术......
<正> 近几年来,由梯度折射率光纤制成的自聚焦透镜在微型光学系统、光纤通讯、医用光学诊断器和复印机等方面的用途越来越广泛。这......
一套好的对于光束能量和偏振态的分析方法将对我们设计光学系统起到很好的指导作用。在光学系统中,不同偏振态光束的能量的计算方......
本文以菲涅耳衍射透镜的设计为例,在单位周期内的相位台阶数与最小特征尺寸之间关系的基础上,提出了减小元件边缘单位周期内的台阶......
针对癌细胞突变基因诱导荧光信号弱、光谱覆盖范围宽、现有显微镜不能检测等局限,本文设计了光谱波段为450~800nm、数值孔径为0.95......
<正> 本文所阐述的大数值孔径,小型传感器非球面透镜的最佳化设计方法与采用普通软件包的设计方法不同。此大数值孔径非球面透镜的......
设计了一种大数值孔径、高分辨率的环形视场极紫外光刻物镜.以环形视场两镜系统的设计理论为基础,推导了相关参数的计算公式;并由......
大数值孔径光纤在观测系统中,实现了大视野、大角度观察,因此在军事、医学,工业等领域具有广泛的应用需求。本文为了提高光纤的数......
分辨率是成像系统最重要的性能参数。理想成像系统的分辨率由衍射极限决定。利用衍射光学的技术与器件,能够突破受限于衍射极限的......
为了拓展KrF光刻在小于 1 80nm的SIA设计规则技术阶段的制造能力 ,需要一种最大 0 7NA透镜的远紫外步进扫描曝光系统来提供足够的......
目前国际上以日本、荷兰等国为首工业发达国家其生产的光刻机曝光节点能够达到25nm以下，光刻机中的核心部件投影物镜元件个数就超过......
