投影光刻物镜相关论文
微电子工业发展的关键之一是超大规模集成电路的制造设备，而投影光刻物镜是微电子专用光学设备中——分步投影光刻机的核心部件，其技......
193nm深紫外光刻机和下一代的13.5nm极紫外光刻机是我国半导体行业和超大规模集成电路战略的核心装备，光刻投影物镜是其中尤为关键......
热像差是导致光刻物镜工作状态下像质劣化的主要原因之一。针对同轴两反式高数值孔径(NA)投影光刻物镜的结构特点,提出了将元件位......
荷兰ASML公司作为全球三大光刻机集成生产商之一 ,通过不断的技术创新 ,在全球光刻机市场上居于领先地位。在简单介绍光刻机基本工......
近年来,国内集成电路产业伴随着智能产品的普及而迅速发展,国内集成电路市场已经成为全球集成电路主要市场。然而,我国集成电路发......
为了精确控制与补偿物镜的热像差,设计了一套三镜实验光学系统,基于该系统验证了热像差计算方法的准确性。介绍了热像差分析方法及......
用于制造大规模集成电路的核心设备是光刻机,光刻机的核心部件是投影光刻物镜。为了将掩模图形近似完美地投影到光刻胶上,光刻物镜......
ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清......
考虑用CaF2材料制作投影光刻物镜可以明显提高其性能指标,本文研究了CaF2材料加工工艺的全流程,以实现CaF2材料的全频段高精度加工......
针对投影光刻物镜苛刻的像质要求,将计算机辅助装调(CAA)技术引入投影光刻物镜的装调过程中,建立了相应的数学模型。选取33个视场F......
目前,高数值孔径(NA)投影光刻物镜都普遍采用非球面元件来提升光学系统的成像质量并降低系统的复杂度,但是高精度非球面检测一直是......
光刻工艺中,光刻物镜的焦深往往只有几微米到几十微米左右,寻找焦面并非件轻而易举的事,若焦面未找准,会导致光刻图形模糊不清,严......
在常见光学系统的设计过程中,默认所使用的光学材料各点折射率是均匀的。然而,事实上绝对均匀的光学材料并不存在。对一般的光学系......
针对45nm及以下节点光刻相关技术的研究需求,确定了实验型投影光刻物镜的结构型式及设计指标。依据像差理论在非同心小遮拦的Schwa......
为满足严格的套刻需求,双远心结构的投影光刻物镜需要选择恰当的元件移动来进行倍率的补偿和调节。提出了一种简单而实用的方法来......
本文以193nm(ArF)步进扫描投影光刻机中100nm投影光刻物镜为切入点,探讨高性能光学系统的定中心问题。首先介绍了新旧国家标准关于......
本文针对极大规模集成电路制造的工业化生产需求,开展面向100nm曝光节点的高数值孔径(NA)、深紫外(DUV)投影光刻物镜的光学设计与......
大规模集成电路工业化生产的核心设备是光刻机,而光刻机的核心分系统是投影光刻物镜。本文针对45 nm节点深紫外(DUV)投影光刻机的......
为了实现高成像要求,投影光刻物镜在设计时需要考虑膜层偏振效应的影响,并进行相应的分析和评价。首先介绍了基于琼斯矩阵的偏振像......
为保证投影光刻物镜的成像性能并降低制造成本,提出了一种更全面可靠的公差分析方法。该方法在以波像差均方根(RMS)值作为评价标准......
光刻机是大规模集成电路制造的核心装备,投影光刻物镜作为其关键部件,其成像性能(波像差、畸变、场曲、远心度等)直接决定了集成电......
